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David Park教授首先介绍了晶体管的前世今生,然后从晶体管的结构、原理出发,引出半导体制造过程中的八大工艺包括光刻、刻蚀等。在介绍八大工艺的同时,David Park教授还重点说明了现存工艺存在的局限性,如本应整齐的边界变得扭曲、方向性不够强和对环境要求苛刻等。他还指出,目前半导体发展的趋势是尺寸越来越小,需要突破理论,还需要制造更精密的仪器。
在互动交流环节,针对同学们的提问,David Park教授分析了目前半导体行业的发展情况,在肯定中国半导体产业快速发展的同时,也客观地指出目前中国在芯片行业和世界先进水平的差距。David Park教授表示:“中国制造的芯片占世界总量很大,中国理应拥有更先进的半导体技术,这需要在座的同学们继续保持对半导体的热爱,不断创新不断进步,总有一天会解决卡脖子问题。”